真空镀膜系统

安装新系统或维护现有系统后,经常发生泄漏。在许多情况下,这是由于连接错误或忘记密封或密封件有缺陷。氦气检漏仪的正确操作对于发现泄漏和检查设备的紧密性至关重要。对于泄漏测试的物理原理以及测试过程中的优化可能性了解得越多,越容易在实践中使用氦气检漏仪。这也让测量结果更可靠。以下概述提供了关于氦气检漏仪的正确使用和真空系统泄漏测试成功实施的实用信息。

将泄漏探测器连接到镀膜系统时需要考虑什么?

真空设备调试或维护之后出现的泄漏往往规模很大。然而自一定泄 漏规模以上,市场上常见的氦气检漏仪便无法继续使用。此类设备 最大工作压力通常在约 6 至 25 mbar 之间。如果存在大量泄漏,抽真空时即有可能无法达到此压力。图 1 展示的是一台氮化硅 (Si~3~N4) 涂层设备。在某次维护之后,抽真空时只能达到 80 mbar 的压力。为了在如此高的工作压力之下依然能够进行泄漏检测,可 使用普发真空 ASM 340 检漏仪的一种定性大量泄漏检测模式。借 助此模式即可定位存在的泄漏点。

Si3N4 涂层系统
Si~3~N4 涂层系统
 

将氦气检漏仪集成在涂层系统流程泵中,用来支持检漏仪

理想情况下,将泄漏探测器连接到真空系统的前真空线上。泄漏探测器设计用于清洁环境。为了保护其免受由于在泵出过程期间的压缩热而产生的严重的热应力,还可以使用额外的流程泵。它对热应力不敏感,并且也能泵出所有的气体、蒸气和任何搅起的颗粒。

使用额外的流程泵可以提高泄漏探测器的可用性,并显著延长维护周期。这会大大降低运营成本。

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